Si875x驱动器具有可选的米勒钳位能力防止外部FET的意外开启
发布时间:2023/12/19 23:40:03 访问次数:84
10纳米及以下的掩膜技术推出了三款先进的光罩检测系统,Teron™640、Teron™SL655和光罩决策中心(RDC)。所有这三套系统是实现当前和下一代掩膜设计的关键,使得光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著并严重损害成品率的缺陷。
Teron检测机台的综合光罩质量测量是由光罩决策中心(RDC)所支持的,RDC是一套数据分析与管理系统,具备多种功能,支持缺陷的自动识别判断,缩短生产周期,并减少影响成品率的与光罩相关的掩模图案错误。
新型Si875x家族产品为开发人员选择应用所需的具有成本效益的FET提供了极大灵活性,也为最先进的固态开关带来最简单的迁移方案。
多功能输入提供数字CMOS引脚控制(Si8751器件)或二极管仿真(Si8752器件),能够很好的适应目标应用,并且灵活的输出支持AC和DC负载配置。
灵活的2.25至 5.5V的输入侧电压支持平滑连接到低功率控制器。Si875x驱动器也具有可选的米勒钳位能力,防止外部FET的意外开启。
Si875x隔离型FET驱动器系列产品优势特点:
业内首款基于CMOS的隔离型SSR解决方案,支持特定应用的FET。
一流的噪声抑制能力,高可靠性和2.5kVrms隔离等级。
高压条件下长使用寿命(1000V条件下可达100年)。
高效开关:10.3V门电压,仅仅1mA输入电流。
2.25至5.5V宽输入电压可实现节能。
独特引脚特性可在功耗/开关时间之间优化权衡。
米勒钳位防止外部FET意外开启。
小型SOIC-8封装,集成了隔离和用于低功耗应用的功率电容器。
AEC-Q100认证的汽车级器件选项。
10纳米及以下的掩膜技术推出了三款先进的光罩检测系统,Teron™640、Teron™SL655和光罩决策中心(RDC)。所有这三套系统是实现当前和下一代掩膜设计的关键,使得光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著并严重损害成品率的缺陷。
Teron检测机台的综合光罩质量测量是由光罩决策中心(RDC)所支持的,RDC是一套数据分析与管理系统,具备多种功能,支持缺陷的自动识别判断,缩短生产周期,并减少影响成品率的与光罩相关的掩模图案错误。
新型Si875x家族产品为开发人员选择应用所需的具有成本效益的FET提供了极大灵活性,也为最先进的固态开关带来最简单的迁移方案。
多功能输入提供数字CMOS引脚控制(Si8751器件)或二极管仿真(Si8752器件),能够很好的适应目标应用,并且灵活的输出支持AC和DC负载配置。
灵活的2.25至 5.5V的输入侧电压支持平滑连接到低功率控制器。Si875x驱动器也具有可选的米勒钳位能力,防止外部FET的意外开启。
Si875x隔离型FET驱动器系列产品优势特点:
业内首款基于CMOS的隔离型SSR解决方案,支持特定应用的FET。
一流的噪声抑制能力,高可靠性和2.5kVrms隔离等级。
高压条件下长使用寿命(1000V条件下可达100年)。
高效开关:10.3V门电压,仅仅1mA输入电流。
2.25至5.5V宽输入电压可实现节能。
独特引脚特性可在功耗/开关时间之间优化权衡。
米勒钳位防止外部FET意外开启。
小型SOIC-8封装,集成了隔离和用于低功耗应用的功率电容器。
AEC-Q100认证的汽车级器件选项。