在开发新的芯片加工技术的道路上，英特尔到达了一个新的里程碑。

    这家芯片制造商计划于周一宣布它已在它位于俄勒冈州希尔巴罗的开发设备上安装了第一个商用远紫外线（EUV）平板印刷工具。

    英特尔将使用EUV平板印刷工具——它在硅晶片上“画”线以制成金属电路版——来改良一个将于2009年投入使用的新的加工工艺。

    现有的平板印刷工具使用透镜和滤光器在纳米，即10亿分之一米的规模上划线。使用透镜具有局限性，若线的长度和宽度低到一定程度，它便不能准确地投射。而EUV由于用精密镜片取代了透镜，它在一定程度上克服了这种局限。

    EUV平板印刷工具也依赖于紫外线（紫外线的波长相当短，只有13.5纳米）来印刷小型电路。目前英特尔工厂的印刷工具使用193纳米的光源来印制小的50纳米的线路。

   “首先最重要的是，(EUV)扩展了英特尔平板印刷路线图，这是走向更小化和摩尔定律实现的关键。”英特尔技术和制造部门的部件研究经理Ken David说。

    EUV平板印刷工具的安装标准着该技术开始由实验室走向实用。然而，英特尔表示要想让EUV步入芯片加工的主流行列，还得花费数年的努力。

   （转自:中国半导体行业网）