投影光刻机的发展（投影对准机和步进光刻机）大大延长了掩模版和放大掩模版的使用寿命．， PC16550DVX这也促进了高质量的掩模版和放大掩模版的发展。在生产线上，掩模版使用r很长一段时间以后，卜面可能会有灰尘和划痕，从而造成晶圆的良品率降低。掩模版受损的一个原因町能来自掩模版和放大掩模版的清洁过程。这是一个左右为难的尴尬境地，在清洗掩模版和放大掩模版时，会造成掩模版污损，清洗本身变成_『污染、划痕和破损的来源。

   解决这一问题的一个办法是掩模版贴膜（见图10. 20）。掩模版贴膜( pellicle)是一层在框架上拉伸平铺的无色有机聚合物薄膜。框架是寺为掩模版或放大掩模版设计的。掩模版贴膜是在掩模版制成或清洁后加盖上的。贴膜加在掩模版卜后，环境中的微粒就会附着在薄膜表面。薄膜与掩模版之间的距离保证r微粒不会在掩模版的焦平面上。实际上，微粒对于曝光光源来说是透明的。

   使用贴膜的另一个好处是由于掩模版表面被薄膜覆盖，一定程度上防止了掩模版划痕。第三个好处是一旦覆盖上贴膜，掩模版和放大掩模版可以省去一些例行的清洗。在一些应用中，掩模版贴膜还被加上抗反射涂层，它有助于小几何尺寸的图形，尤其是在有反射的晶圆表面。这些好处可以促使晶圆良品率5%~30%的增加19。