在研发X射线曝光设备的同时，X射线光刻胶的研发工作也在进行。， P89V51RD2FA这项工作很复杂，曝光必须在真空中进行，以防止空气分子对电子束的干扰。电子束通过一组静电板然后到达掩模版、放大掩模版或晶圆，这组静电板的作用是调节电子束方向（在x-y方向）。它们的功能和电视机的电子束导向机理类似。为保证电子束精确到达晶片或掩模版，电子束源、相应的机械装置和要被曝光的衬底都在真空环境中。

   电子束光刻无须使用产生图形的掩模版或放大掩模版。因为不用掩模版，一些由掩模版或放大掩模版曝光引起的缺陷和错误源被去除r。电子束开关和导向由计算机来控制，计算机中存有直接来自计算机辅助设计( CAD)设计阶段的晶圆图形。电子束被偏转系统导向到

需要曝光的位置上，并将电子束打开，使相应的部位光刻胶曝光．，更大面积的衬底被固定在x-y载台上，载台连同衬底在电子束下移动直到全部曝光完毕。这种对准和曝光技术称为“直接书写式”( direct writing)。

   光刻胶的曝光图形分为光栅式和矢量式。光栅式扫描是电子束从晶圆一边扫描到另一边然后向下。计算机控制方向和开关电子束。光栅式扫描的缺点是费时，因为电子束要扫描整个晶圆表面。而矢量式扫描曝光，电子束直接移到需要曝光的地方，在每一个需要曝光的地方，曝出一个个小的矩形或长方形，直到需要的图形曝光完成。