Pall和Matheson的最新气体净化系统 面向半导体制造
发布时间:2007/8/30 0:00:00 访问次数:450
Pall公司和Matheson Tri-Gas公司日前宣布达成合作联盟,两家公司共同开发、制造和销售用于半导体制造领域的气体净化系统。
据两家公司表示,这个联盟构建在Pall和Matheson公司之间,两家公司将会采用专有的净化媒介,通过除去微粒和分子污染物,提高半导体制造工厂的洁净度。另外,两家公司也将在新技术的研发中结合各自的开发力量。
Pall Microelectronics公司总裁Steven Chisolm对这个规模达3,000万美元的市场表示乐观,称结成联盟后双方的技术将成为行业的事实标准。Matheson Tri-Gas公司首席执行官兼总裁William J. Kroll表示,“新的商业关系有助于改进我们的净化产品,并提高效率,在市场中提供更好的产品。”该公司是Nippon Sanso集团的一个成员。
自从1997以来,两家公司就开始合作,当时Pall公司分销Matheson公司的point-of-use空气净化系统。1998年开始,Pall公司开始开发用于半导体制造的气体净化技术。
Pall公司和Matheson Tri-Gas公司日前宣布达成合作联盟,两家公司共同开发、制造和销售用于半导体制造领域的气体净化系统。
据两家公司表示,这个联盟构建在Pall和Matheson公司之间,两家公司将会采用专有的净化媒介,通过除去微粒和分子污染物,提高半导体制造工厂的洁净度。另外,两家公司也将在新技术的研发中结合各自的开发力量。
Pall Microelectronics公司总裁Steven Chisolm对这个规模达3,000万美元的市场表示乐观,称结成联盟后双方的技术将成为行业的事实标准。Matheson Tri-Gas公司首席执行官兼总裁William J. Kroll表示,“新的商业关系有助于改进我们的净化产品,并提高效率,在市场中提供更好的产品。”该公司是Nippon Sanso集团的一个成员。
自从1997以来,两家公司就开始合作,当时Pall公司分销Matheson公司的point-of-use空气净化系统。1998年开始,Pall公司开始开发用于半导体制造的气体净化技术。