“软刻蚀”是一种相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法。 ICM7555ID总的思路就是把用昂贵设各生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制,提高微制作的效率。以哈佛大学White盂des教授研究组为代表的多个研究集体发展了相关技术,包括微接触印刷、毛细微模塑、溶剂辅助的微模塑、转移微模塑、微模塑、近场光刻蚀等多项内容,并正式提出了“软刻蚀”这样的名称。这些方法工艺简单,对实验室条件要求不高,叉能在曲面上进行操作,甚至可制备三维的立体图形。

   软刻蚀一般是通过表面复制有细微结构的弹性印模来转移图形的。其方法有用烷基硫醇“墨水”在金表面印刷,将印模作为模具直接进行模塑,或将印模作为光掩膜进行光刻蚀等,过程简单、效率高。软刻蚀不但可在平面L制造图形,也可以转移图形到曲面表面,它还可以对图形表面的化学性质加以控制,方便地产生具有特定功能团的图形表面;软刻蚀还能复制三维的图形,精细程度达100nm以下,弥补了光刻蚀方法的不足。

   软刻蚀技术的核心是图形转移元件――弹性印模。制作印模的最佳聚合物是聚二甲基硅氧烷(PDMS)。先用光刻蚀法在基片上刻出精细图形,在其上浇铸PDˇs,固化剥离得到表面复制微图形。甚至在凸透镜的表面模塑出了类似蜻蜓复眼式的众多微凸透镜,也源于PDMS优良的弹性。软刻蚀过程简单、方法灵活,在微制造方面有很好的应用前景。在图形的精确定位、印刷质量方面,目前软刻蚀还比不上光刻蚀,然而它有许多优点是光刻蚀技术所不具有的,例如,它能在曲面上刻蚀图形,制作=维微结构,方便地控制微接触印刷表面的化学物理性质,制作陶瓷、高分子、微颗粒等微制造材料的微图形,尤其是它不需复杂的设备,可以在普通实验室条件下进行制作。