随着工艺节点的不断提升,掩模板的制造成本也呈直线攀升。一套130nm的掩模板的平均价格为40万美元,90nm为60万美元,65nm为70万美元,45nm为120万美元,32/28nm为250万美元,22`/20nm为650万美元。S-80440AL在掩模板制作费用飞速增长的压力下,业内专家正在讨论下一个10年内将无掩膜光刻由实验室转向量产的可行性。

   早在10年前就已开始研究的电子束直写技术,经过10年的努力收效甚微,主要原因是书写速度太慢,远远不能满足量产的需要。而光学无掩模板(CyMI'2)和带电粒子无掩模板(CRMI冫2)技术都需要面对一系列有关商业市场和技术的关键问题,其中包括产能、与光刻工艺的兼容性、数据的储存、数据的容量和传输、适用平台,以及如何修正影响线宽和套准的误差等。

   一部分业内人士对无掩膜光刻持怀疑态度,半导体丁业发展到今天已经基于一个成熟的平台,无掩模板光刻的引入将颠覆整个平台,其成本代价是巨大的,不是仅仅更换一个设备的问题。但也有人认为无掩模板光刻是降低掩模板成本的潜在解决方案,是一种有前途的光刻技术,只是近期只能作为一种应用在特殊领域的技术而并不能取代现在已经被广泛视为主流的浸人式光刻或超紫外光刻技术。尽管无掩模板光刻有待解决的技术问题还很多,但其较低的成本将使其在未来继续受到关注。