掩模板就是将设计好的特定几何图形通过一定的方法以一定的间距和布局做在基板上,供光刻HAT3037R-EL-E工艺中重复使用。制造商将设计工程师交付的标准制版数据传送给一个称为图形发生器的设备,图形发生器会根据该数据完成图形的产生和重复,并将版图数据分层转移到各层光刻掩模板(为涂有感光材料的优质玻璃板)上,这就是制版。每层版图对应于不同的光刻掩模板,并对应于不同的工艺步骤。实际光刻版的照片如图101所示。

   光刻掩模板质量的优劣直接影响光刻图形的质量。在芯片制造过程中需要经过十几乃至几十次的光刻,每次光刻都需要一块光刻掩模板,每块光刻掩模板的质量都会影响光刻的质量。因此要有高的成品率,就必须制作出高质量的光刻掩模板。

   结构简单的微电子器件,一般可以采用手工方法和光学照相技术制版。随着超大规模集成电路线条尺寸的不断缩小以及结构的日益复杂,集成电路等复杂结构的掩模板都采用自动方式和电子束技术进行制版。