该设备特性与技术指标如下:

   ①采用机械泵/分子泵组成的真空系统,真空室基压可达3×101Pa。L79L12ACDR

   ②溅射电源共有两种:射频电源1500W,频率13.56MHz;直流电源⒛00W,电源功率可调。

   ③淀积室有3个靶座,可同时溅射三种材料,可形成多层复合膜或实现金属共溅射。

   ④衬底可以是2~4英寸圆片,衬底支架能够旋转,这不仅可以提高溅射薄膜的均匀性,也可以抑制衬底的温升。

    ⑤用两个质量流量计控制气体流量,可实现气体的准确混合,提高工艺重复性。可外接4种气体(如Ar、O2、N2等)。

   ⑥可用于各种材料的薄膜的淀积,如Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Tl、Al、⒏、ITO等,特别适合于用光刻剥离技术制备各种难腐蚀金属如Au、Pt、Ta的亚微米薄膜图形。