集成电路工艺是一种超精细加工I艺,目前工艺特征尺寸已进人纳米量级,因此对I艺环境、使NAND128W3A2BN6F用原材料的要求非常高。而芯片I艺的一次循环就可以制造出大量芯片产品的特性,使得集成电路工艺具有高可靠、高质量、低成本的优势,从而其应用范围也就比较广泛。

   集成电路芯片的特征尺寸已在深亚微米量级,在芯片的关键部位若有1um甚至更小的尘粒,都会对芯片性能产生很大影响,甚至导致其功能失效。所以,芯片工艺对环境要求严格,是一种超净工艺,即集成电路芯片必须在超净环境下生产。

   超净工艺完成场所可以是超净I作台、超净工作室、超净I作线,一般用“超净室”来概括。超净室是指一定空间范围内,室内空气中的微粒、有害气体、细菌等污染物被排除,其温度、洁净度、力、气流速度与气流分布、噪声振动及照明、静电等被控制在某一范围内的△作环境。无论室外空气条件如何变化,室内均能维持原设定要求的洁净度、温湿度及压力等特性。超净室结构和运行原理如图0-5所示。达到目标温度和湿度的空气,经增压室增压,通过天花板的过滤器过滤进人室内,再以适当角度并以层流方式流向超净室地板,在负压作用下通过地板或从地板四周流出超净室,再经气道回到位于天花板上层的气体处理室。在气体处理室,废气被直接提取、分离后处理、排除。而处理过的循环气体与一定温度和湿度的新鲜空气混合,再送到位于天花板上层的压力室,进行下一轮循环。