衬底材料的粗糙度及DBR膜层质量对DBR反射率有影响
发布时间:2016/8/9 20:30:45 访问次数:2018
DBR膜层质量以及衬底材料的表面粗糙度同样会影响到结构的反射率。如图5-45所示为不同粗糙度衬底镀出的、不同膜层质量的DBR膜系。 B06B-XASK-1在GaN基LED背镀DBR制程中,蓝宝石衬底经过研磨减薄后进行抛光,抛光后的衬底表面粗糙度对DBR的膜层平整度产生重要影响,如果镀DBR前衬底表面的粗糙度较大,镀出的DBR膜层可能继承衬底的不平整性,DBR膜层将不平整,如图5-45(a)所示。在产业化的GaN基LED背镀DBR制程中一般采用电子束蒸发,同时用离子源辅助的方式。因此在镀膜时的温度、腔室的压力、离子源的口径和功率、辅助离子源气体的种类和流量等均对DBR膜层的质量产生重大影响。如果镀出的膜层质量不好,表现为膜层较为松散,放置于空气中容易吸收水气,反射光谱跑偏等,这样的LED芯片封装后不仅亮度会下降,而且还会在整体上影响封装后灯珠色坐标,一般会导致相同批次、相同光电参数的LED芯片在相同的封装条件下封装后的色坐标范围变大,这对LED的应用很不利。
DBR膜层质量以及衬底材料的表面粗糙度同样会影响到结构的反射率。如图5-45所示为不同粗糙度衬底镀出的、不同膜层质量的DBR膜系。 B06B-XASK-1在GaN基LED背镀DBR制程中,蓝宝石衬底经过研磨减薄后进行抛光,抛光后的衬底表面粗糙度对DBR的膜层平整度产生重要影响,如果镀DBR前衬底表面的粗糙度较大,镀出的DBR膜层可能继承衬底的不平整性,DBR膜层将不平整,如图5-45(a)所示。在产业化的GaN基LED背镀DBR制程中一般采用电子束蒸发,同时用离子源辅助的方式。因此在镀膜时的温度、腔室的压力、离子源的口径和功率、辅助离子源气体的种类和流量等均对DBR膜层的质量产生重大影响。如果镀出的膜层质量不好,表现为膜层较为松散,放置于空气中容易吸收水气,反射光谱跑偏等,这样的LED芯片封装后不仅亮度会下降,而且还会在整体上影响封装后灯珠色坐标,一般会导致相同批次、相同光电参数的LED芯片在相同的封装条件下封装后的色坐标范围变大,这对LED的应用很不利。
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