束流聚焦
发布时间:2015/11/5 18:39:16 访问次数:848
离开加速管后,束流由于相同电荷的排斥作用而发散。分离(发散)导致离子密度不均匀和晶圆掺杂层的不均一。为使离子注入成功,AD7002AS束流必须聚焦。静电或磁透镜用于将离子聚焦为小尺寸束流或平行束流带|i131。平行离子束是极其重要的,尤其是对晶体管的栅的应用,因为离子束的偏差可能引起不均匀的掺杂剂的剂量,进而影响晶体管的性能。
尽管真空去除了系统中的大部分空气,但是束流附近还是有一些残存的气体分子。离子和剩余气体原子的碰撞导致掺杂离子的中和:
在晶圆内,这些电中性的粒子导致掺杂不均匀,同时由于它们无法被设备探测计数,还会导致晶圆掺杂量的计数不准确。抑制中性粒子流的方法是通过静电场板的方法将束流弯曲,中性的束流会继续沿直线运动而远离晶圆(见图11. 25)。
离开加速管后,束流由于相同电荷的排斥作用而发散。分离(发散)导致离子密度不均匀和晶圆掺杂层的不均一。为使离子注入成功,AD7002AS束流必须聚焦。静电或磁透镜用于将离子聚焦为小尺寸束流或平行束流带|i131。平行离子束是极其重要的,尤其是对晶体管的栅的应用,因为离子束的偏差可能引起不均匀的掺杂剂的剂量,进而影响晶体管的性能。
尽管真空去除了系统中的大部分空气,但是束流附近还是有一些残存的气体分子。离子和剩余气体原子的碰撞导致掺杂离子的中和:
在晶圆内,这些电中性的粒子导致掺杂不均匀,同时由于它们无法被设备探测计数,还会导致晶圆掺杂量的计数不准确。抑制中性粒子流的方法是通过静电场板的方法将束流弯曲,中性的束流会继续沿直线运动而远离晶圆(见图11. 25)。
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