光刻工艺：从表面准备到曝光
发布时间:2015/10/30 22:31:19 访问次数:487
接下来的内容将介绍基本的光刻Ij艺十步法。其中包括每一步的目的、ADC10154CIWM技术考虑和挑战、选项和I：艺控制方法等，对于先进的设计规则光刻工艺使用这些基本的工艺步骤的变化和不同的组合（见第10章）。
贯穿全文，我们会用不同的类推方法来帮助读者理解复杂的工艺过程。对于光刻工艺的一个很好的类比就是涂漆工艺。即使是一个业余的油漆匠也会很快学会，要想最终得到一个平滑而且结合很好的膜，表面必须干燥而且干净。这个道理在光刻工艺过程中同样也适用。为确保光刻胶能和晶圆表面很好地黏结，必须进行表面准备。这一步骤是由3个阶段完成的：微粒清除、脱水烘焙和晶圆涂底胶。
接下来的内容将介绍基本的光刻Ij艺十步法。其中包括每一步的目的、ADC10154CIWM技术考虑和挑战、选项和I：艺控制方法等，对于先进的设计规则光刻工艺使用这些基本的工艺步骤的变化和不同的组合（见第10章）。
贯穿全文，我们会用不同的类推方法来帮助读者理解复杂的工艺过程。对于光刻工艺的一个很好的类比就是涂漆工艺。即使是一个业余的油漆匠也会很快学会，要想最终得到一个平滑而且结合很好的膜，表面必须干燥而且干净。这个道理在光刻工艺过程中同样也适用。为确保光刻胶能和晶圆表面很好地黏结，必须进行表面准备。这一步骤是由3个阶段完成的：微粒清除、脱水烘焙和晶圆涂底胶。
相关技术资料- 10-30光刻工艺：从表面准备到曝光
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