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列出在热氧化反应中的两种氧化剂

发布时间:2015/10/29 20:36:08 访问次数:1175

   学习完本章后,你应该OTI002153能够:

   1.列出硅器件中,二氧化硅膜层的3种基本用途。

   2.描述热氧化机制。

   3.概略了解和讽别反应炉的基本结构组成。

   4.列出在热氧化反应中的两种氧化剂。

   5.简略画出干氧化反应的系统图。

   6.画出一个典型的氧化工艺流程图。

   7.解释在二氧化硅膜层经过热生长形成膜层厚度里的反应时间、压力及温度之间的相互关系。

   8.描述快速热氧化、高压氧化、阳极氧化的反应原理及用途。

参考文献

   [1 ]  Cleasvelin, C. R., Columbo, L., Nimi, H., and Pas, S., Oxidation, an,d Cate Dielectric.s, Han,dbook ofSemicon,ductor Man,ufacmrin,g  Techrzology,2nd  ed. ,2008 , CRC  Press , New  York , NY : 9-I .[2]  Hu, C., "MOSFET Scaling in the Next Decade and Beyond," Semicon,du,ctor In,ternation,al, Cahners

      Publishing,Jun. 1994:105.

[ 3 ]   Wolf, S., and  Tauber, R.,.S///con  Processin.g for the.  VLSI  Era ,1986 , Lattice  Press , Sunset  Beach , CA : 1986.

[4 ]  Cise, P., and  Blanchard, R., Modern, Semicon,du.ctor Fabrication,  Techn,ology, 1986, Reston  Books, Reston,

          VA :43.

[ 5 ]   Sze , S.  M., VLSI  Techn.ology,1983 , McGraw-Hill  Book  Company , New  York , NY :137.


   学习完本章后,你应该OTI002153能够:

   1.列出硅器件中,二氧化硅膜层的3种基本用途。

   2.描述热氧化机制。

   3.概略了解和讽别反应炉的基本结构组成。

   4.列出在热氧化反应中的两种氧化剂。

   5.简略画出干氧化反应的系统图。

   6.画出一个典型的氧化工艺流程图。

   7.解释在二氧化硅膜层经过热生长形成膜层厚度里的反应时间、压力及温度之间的相互关系。

   8.描述快速热氧化、高压氧化、阳极氧化的反应原理及用途。

参考文献

   [1 ]  Cleasvelin, C. R., Columbo, L., Nimi, H., and Pas, S., Oxidation, an,d Cate Dielectric.s, Han,dbook ofSemicon,ductor Man,ufacmrin,g  Techrzology,2nd  ed. ,2008 , CRC  Press , New  York , NY : 9-I .[2]  Hu, C., "MOSFET Scaling in the Next Decade and Beyond," Semicon,du,ctor In,ternation,al, Cahners

      Publishing,Jun. 1994:105.

[ 3 ]   Wolf, S., and  Tauber, R.,.S///con  Processin.g for the.  VLSI  Era ,1986 , Lattice  Press , Sunset  Beach , CA : 1986.

[4 ]  Cise, P., and  Blanchard, R., Modern, Semicon,du.ctor Fabrication,  Techn,ology, 1986, Reston  Books, Reston,

          VA :43.

[ 5 ]   Sze , S.  M., VLSI  Techn.ology,1983 , McGraw-Hill  Book  Company , New  York , NY :137.


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