物质的另一个重要方面就是压力。UC2853N压力作为一种性质通常用于液体和气体。压力定义为施加在容器表面上单位面积的力。气缸中的气压迫使气体进入工艺反应室。所有的工艺机器

都用气压表来测量和控制气压。

   气压表示为英磅每平方英寸( psia)，大气压或托(Torr)①。一个大气压就是在特定温度下包围地球的大气压力。这样，高压氧化系统在5个大气压下工作，其压力是大气压的5倍。

   空气的大气压为14.7 psia，在气缸中气压要用psig或英磅每平方英寸来表示。这意味着仪表的读数是绝对的，它并不包括外界的大气压。

   真空( vacuum)也是在半导体工艺中要遇到的术语和情况，它实际上是低压的情况。一般来说，压力低于标准大气压就认为是真空。真空条件是用压力单位来衡量的。

   低压倾向于用托来表示。这个单位是以意大利科学家托里切利( Torricelli)命名的，他存气体和其性质领域做出了很多重要发现。1托就是压力计中1毫米汞柱( manometer)所对应桷匿。

   如图2. 18(a)所示，想象当压力超过大气压时对压力计中水银柱的影响。当压力升高，在盘子里的水银受压而使水银柱升高。现在想象当气体从系统中抽走形成真空时会怎样[见图2. 18(b)l?只要有任何气体分子或原子在压力计中，施加在盘中的水银上的压力就会很小，从而水银柱就会升高一点点但很有限。水银柱变化是毫米( mm)级的，是与压力相关的，或者在这种隋况下是与真空有关的。