永光化学/电子化学事业处/技术发展部 颜料分散型彩色光阻剂(pigment dispersed color resists, pdcr)为lcd平面显示器彩色化的关键材料，台湾永光化学本着多年来致力于电子化学品开发的经验，并在1998年于工业技术研究院移转此彩色光阻技术，至今已建立完整的技术能力，并成为台湾第一家本土供应的厂商。 永光开发的产品除能符合彩色滤光片制程上低曝光能量、高现像能力等宽容制程条件外，更具有高解析、高色饱和度之特性。在彩色光阻色度调配之技术上，永光更能快速提供符合客户新色度产品需求之光阻材料。而这些自有技术能力当可协助台湾lcd产业充分发挥关键材料就地开发与供应的优势。 随着彩色手机市场及小尺寸彩色面板应用的快速发展，cstn lcd除挟着既有省能及低成本的优势外，过去令人诟病的应答速率也因在驱动ic效能瓶颈的突破，令cstn厂近来又重新找回市场的利基点。早在台湾开始引进cstn lcd技术之初，永光化学即与台湾cstn彩色滤光片 (cf) 厂商进行相关材料的合作开发。永光熟知cstn lcd产品对pdcr材料之需求，也充分掌握光阻剂配合cf制程所必须考虑的各项特性。特别是针对小尺寸彩色面板在设计上不似大面板走向标准化规格的趋势，在色彩的呈现上因着产品类型的多元化，彩色光阻厂必须能针对lcd产品色彩的设计及cstn lcd构装上材料或组件的差异，在彩色光阻剂色度及制程特性上作不同的因应调整。对此，无论是应用在反射式cstn、半反射式cstn上的彩色光阻剂，或是针对red、green、blue三色光阻的特殊色度设计、调整白光色偏移(white balance)等需求，永光化学的彩色光阻材料均能提供解决的对策。近几年来永光在cstn lcd彩色光阻剂系列产品的开发上，除能提供色彩饱和度从ntsc ratio 5~60%的光阻产品，在提升光阻剂亮度的进展上已有关键性的突破。 cstn lcd以小尺寸面板产品为主，台湾厂商多使用第一、二代设备及基板。相对而言，notebook pc、monitor、lcd tv等大尺寸面板产品，因应答速率的要求高于cstn lcd的设计极限，几乎都是tft lcd的市场。 因为产品尺寸的不同，tft lcd厂在面板产能及经济效益考虑下，大都以第三代以上的设备及基板尺寸作为投资目标。为此，提供tft lcd厂彩色化组件的cf厂，其设备及基板的投资选择也需与配合的tft lcd厂一致。对提供cf彩色化材料的彩色光阻剂厂来说，基板尺寸的差异也是材料开发技术上重要的分界。 cstn及tft lcd的彩色光阻剂技术上的差异，主要可从涂布特性及光阻与基板附着性两方面来考量。在涂布特性上，基板扩展到第三代以上尺寸后，光阻剂在基板上进行旋转涂布时，由注入光阻剂的基板中心位置到玻璃端点的距离远长于第一、二代基板，若光阻剂的设计未考量到流变性、流平性、及挥发速率的控制，光阻在涂布、预烤后将会出现判定异常的波痕(mura)现象。而在光阻与基板附着性上，因cstn使用的是soda-lime玻璃基板涂布一层sio2，与tft lcd使用的无碱玻璃不同，所以光阻剂的设计需考量到附着性差异的影响。除这两方面的差异外，光阻材料的信赖性测试也因cstn构装上有使用overcoat保护层，而tft lcd的cf可有不使用的差异设计而有不同的规格要求。 近几年台湾在lcd上的耕耘已带动了新一波的产业投资热潮，不论是tft、stn，包含大、小尺寸各型面板产品，多样彩色化商品的推出及广泛应用的推展已是市场的趋势。面对不论是新制造技术的需求，或是因应多样化产品的色度要求，pdcr厂与cf厂、lcd厂之密切合作与快速整合对技术的进展或产品的推出极为关键。永光化学秉持着关怀客户、共创价值的经营理念，以多年在pdcr开发的经验及自有技术，积极配合台湾的lcd产业，加速推出新产品，以善尽本土材料供货商之企业责任。 duv光阻剂 永光化学继g-line及i-line光阻之后，目前在krf系统的248nm光阻方面，推出有epk711及721两款产品，并已通过厂商实验室验证。其中epk711适用于180奈米逻辑线路制程之应用，具有高穿透性及灵敏度，提供高曝光宽容度(exposure latitude)及聚焦景深(depth of focus)的制程窗口(process window)。epk721为适用于180奈米以下随机动态存取内存(dram)产品制程，除具高分辨率及大聚焦景深外，还具备热稳定性。另正进行开发适用于140奈米以下随机动态存取内存(dram)制程之光阻剂；除了关键层(critical layer)之光阻产品外，为配合客户之制程转换，也推出非关键层krf用厚膜光阻剂epk770，适用在离子植入之制程。另为配合客户制程所须，亦正在研发适用于较低烘烤温度制程之离子植入层用krf厚膜光阻剂。 至于在130奈米以下光阻剂的开发，则持续开发应用于125奈米及110奈米的krf光阻剂，也已有初步成果。 纵观目前半导体制程的技术结点，约略以180、130、90