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半导体硅片RCA清洗技术

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:373

　传统的rca清洗技术：所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统
　　清洗工序： sc-1 → dhf → sc-2
　　1. sc-1清洗去除颗粒：
⑴

　传统的rca清洗技术：所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统
　　清洗工序： sc-1 → dhf → sc-2
　　1. sc-1清洗去除颗粒：
⑴
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