工艺化学品污染
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:296
在制造工厂中，用于刻蚀和清洗晶圆和设备的酸、碱、溶剂必需是最高纯度的。涉及的污染物有金属离子微粒和其它化学品。与水不同的是，工艺化学品是采购来的，直接运输到工厂后使用。工业化学品分不同级别，他们分一般溶剂、化学试剂、电子级和半导体级。前两种对于半导体使用来说过脏，电子级与半导体级相对洁净些，但不同制造商所生产化学品的洁净度也是不同的。
图 5.21 典型去离子水系统
purity water纯水
particle prefilter 颗粒前过滤器
reverse osmosis demineralizer反渗透去微粒器
primary demineralizer主要去微粒器
n2氮气
storage tank存储罐
polishing demineralizer去微粒器
ultraviolet sterilizer紫外线杀菌
final filter最终过滤器
process area工艺区
r
图 5.21 典型去离子水系统
purity water纯水
particle prefilter 颗粒前过滤器
reverse osmosis demineralizer反渗透去微粒器
primary demineralizer主要去微粒器
n2氮气
storage tank存储罐
polishing demineralizer去微粒器
ultraviolet sterilizer紫外线杀菌
final filter最终过滤器
process area工艺区
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在制造工厂中，用于刻蚀和清洗晶圆和设备的酸、碱、溶剂必需是最高纯度的。涉及的污染物有金属离子微粒和其它化学品。与水不同的是，工艺化学品是采购来的，直接运输到工厂后使用。工业化学品分不同级别，他们分一般溶剂、化学试剂、电子级和半导体级。前两种对于半导体使用来说过脏，电子级与半导体级相对洁净些，但不同制造商所生产化学品的洁净度也是不同的。
图 5.21 典型去离子水系统
purity water纯水
particle prefilter 颗粒前过滤器
reverse osmosis demineralizer反渗透去微粒器
primary demineralizer主要去微粒器
n2氮气
storage tank存储罐
polishing demineralizer去微粒器
ultraviolet sterilizer紫外线杀菌
final filter最终过滤器
process area工艺区
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图 5.21 典型去离子水系统
purity water纯水
particle prefilter 颗粒前过滤器
reverse osmosis demineralizer反渗透去微粒器
primary demineralizer主要去微粒器
n2氮气
storage tank存储罐
polishing demineralizer去微粒器
ultraviolet sterilizer紫外线杀菌
final filter最终过滤器
process area工艺区
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