滚磨定向指示
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:288
一旦晶体在切割块上定好晶向，就沿着轴滚磨出一个参考面（图3.16）。这个参考面将会在每个晶圆上出现，叫做主参考面。参考面的位置延着一个重要的晶面，这是通过晶体定向检查来确定的。
在制造工艺中，参考面对晶向起可见的参考作用。它用来放置第一步的光刻图案掩膜版，所以芯片的晶向总是沿着一个重要的晶面。
在许多晶体中，在边缘有第二个较小的参考面。第二个参考面对于主参考面的位置是一种代码，它不仅用来区别晶圆晶向而且区别导电类型。这种代码在图3.17中显示。
对于大直径的晶圆，在晶体上滚磨出一个缺口来指示晶向。
在制造工艺中，参考面对晶向起可见的参考作用。它用来放置第一步的光刻图案掩膜版，所以芯片的晶向总是沿着一个重要的晶面。
在许多晶体中，在边缘有第二个较小的参考面。第二个参考面对于主参考面的位置是一种代码，它不仅用来区别晶圆晶向而且区别导电类型。这种代码在图3.17中显示。
对于大直径的晶圆，在晶体上滚磨出一个缺口来指示晶向。
一旦晶体在切割块上定好晶向，就沿着轴滚磨出一个参考面（图3.16）。这个参考面将会在每个晶圆上出现，叫做主参考面。参考面的位置延着一个重要的晶面，这是通过晶体定向检查来确定的。
在制造工艺中，参考面对晶向起可见的参考作用。它用来放置第一步的光刻图案掩膜版，所以芯片的晶向总是沿着一个重要的晶面。
在许多晶体中，在边缘有第二个较小的参考面。第二个参考面对于主参考面的位置是一种代码，它不仅用来区别晶圆晶向而且区别导电类型。这种代码在图3.17中显示。
对于大直径的晶圆，在晶体上滚磨出一个缺口来指示晶向。
在制造工艺中，参考面对晶向起可见的参考作用。它用来放置第一步的光刻图案掩膜版，所以芯片的晶向总是沿着一个重要的晶面。
在许多晶体中，在边缘有第二个较小的参考面。第二个参考面对于主参考面的位置是一种代码，它不仅用来区别晶圆晶向而且区别导电类型。这种代码在图3.17中显示。
对于大直径的晶圆，在晶体上滚磨出一个缺口来指示晶向。
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