双面抛光
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:381
对大直径晶圆许多要求之一是平整和平行的表面。许多300毫米 晶圆的制造采用了双面抛光，以获得局部平整度在25´25毫米 测量面时小于0.25微米到0.18微米的规格要求。4缺点是在后面的工序中必须使用不划伤和不污染背面的操作技术。
对大直径晶圆许多要求之一是平整和平行的表面。许多300毫米 晶圆的制造采用了双面抛光，以获得局部平整度在25´25毫米 测量面时小于0.25微米到0.18微米的规格要求。4缺点是在后面的工序中必须使用不划伤和不污染背面的操作技术。
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