位置:51电子网 » 技术资料 » 接口电路

海力士半导体DRAM产品获得 ISi存储技术授权

发布时间:2008/5/28 0:00:00 访问次数:512

  海力士已经同意在其动态随机存储器(dram)芯片中采用isi的z-ram技术。采用z-ram的dram将使用一种单晶体管位单元,来替代多个晶体管和电容器的组合,这代表了自上世纪70年代初发明dram来,基本dram位单元实现了首次变革。海力士已经获得了抢先将z-ram引入dram市场的机会。为确保这项优势,两家公司已经投入相当大的工程资源共同开发该项目。

z-ram最初作为全球成本最低的嵌入式内存技术而应用于逻辑芯片,如移动芯片组、微处理器、 网络和其他消费应用。2005年12月amd首次获得该项技术授权,将这项技术应用于微处理器设计。目前此次与hynix的合作,使z-ram成为超过300亿美元的存储器市场中成本最低的存储器技术。

“ z-ram保证提供一种在纳米工艺上制造高密度dram的最佳方法,” 海力士研发部副总裁sung-joo hong说。“以isi的 z-r
am创新为基础,我们看到了开创全新产品平台的潜力,这将帮助我们继续保持和扩展在存储器市场中所处的领先地位。”

“ 海力士决定与isi的合作是对我们z-ram存储技术的实力和商业效益的进一步肯定,尤其是海力士是存储器芯片市场的主导者,它的产品被广泛应用于多种电子设备中,如个人电脑、服务器、工作站、显卡以及手持设备,如手机、mp3播放器和数码相机等,”isi首席执行官mark-eric jones说。“采用isi的z-ram技术制成的存储器芯片尺寸更小,成本更低。我们期待着与海力士在下一代dram芯片中的合作,从而为最终用户带来极大的性能和可用性方面的优势。”

isi营销副总裁jeff lewis说:“我们相信这是isi和hynix的重要里程碑。z-ram将对dram的设计和制造产生深远影响。由于2006年dram产业产品销售超过330亿美元,这样的发展将显著地影响到整个电子行业。”

isi的z-ram与目前标准dram和sram(静态存储器)方案不同,因为其单晶体管(1t)位单元结构是全球最小的存储单元,这使其成为全世界密度最高、成本最低的半导体存储方案。通过采用绝缘体上硅结构(soi)晶圆,z-ram的单晶体管存储位单元可利用电路制造中发现的浮体效应(fbe)而变成现实。此外,因为z-ram是利用了soi自然产生的效应,在存储位单元内无须通过改变外在工艺来构建电容或其它复杂结构。



  海力士已经同意在其动态随机存储器(dram)芯片中采用isi的z-ram技术。采用z-ram的dram将使用一种单晶体管位单元,来替代多个晶体管和电容器的组合,这代表了自上世纪70年代初发明dram来,基本dram位单元实现了首次变革。海力士已经获得了抢先将z-ram引入dram市场的机会。为确保这项优势,两家公司已经投入相当大的工程资源共同开发该项目。

z-ram最初作为全球成本最低的嵌入式内存技术而应用于逻辑芯片,如移动芯片组、微处理器、 网络和其他消费应用。2005年12月amd首次获得该项技术授权,将这项技术应用于微处理器设计。目前此次与hynix的合作,使z-ram成为超过300亿美元的存储器市场中成本最低的存储器技术。

“ z-ram保证提供一种在纳米工艺上制造高密度dram的最佳方法,” 海力士研发部副总裁sung-joo hong说。“以isi的 z-r
am创新为基础,我们看到了开创全新产品平台的潜力,这将帮助我们继续保持和扩展在存储器市场中所处的领先地位。”

“ 海力士决定与isi的合作是对我们z-ram存储技术的实力和商业效益的进一步肯定,尤其是海力士是存储器芯片市场的主导者,它的产品被广泛应用于多种电子设备中,如个人电脑、服务器、工作站、显卡以及手持设备,如手机、mp3播放器和数码相机等,”isi首席执行官mark-eric jones说。“采用isi的z-ram技术制成的存储器芯片尺寸更小,成本更低。我们期待着与海力士在下一代dram芯片中的合作,从而为最终用户带来极大的性能和可用性方面的优势。”

isi营销副总裁jeff lewis说:“我们相信这是isi和hynix的重要里程碑。z-ram将对dram的设计和制造产生深远影响。由于2006年dram产业产品销售超过330亿美元,这样的发展将显著地影响到整个电子行业。”

isi的z-ram与目前标准dram和sram(静态存储器)方案不同,因为其单晶体管(1t)位单元结构是全球最小的存储单元,这使其成为全世界密度最高、成本最低的半导体存储方案。通过采用绝缘体上硅结构(soi)晶圆,z-ram的单晶体管存储位单元可利用电路制造中发现的浮体效应(fbe)而变成现实。此外,因为z-ram是利用了soi自然产生的效应,在存储位单元内无须通过改变外在工艺来构建电容或其它复杂结构。



相关IC型号
版权所有:51dzw.COM
深圳服务热线:13692101218  13751165337
粤ICP备09112631号-6(miitbeian.gov.cn)
公网安备44030402000607
深圳市碧威特网络技术有限公司
付款方式


 复制成功!