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TQBiHEMT工艺使砷化镓进程集成到单芯片减少元件数并节省电路板空间

发布时间:2023/8/23 23:10:24 访问次数:116


新型射频前端解决方案,支持高通(Qualcomm)*最新发布的3G芯片组。

利用其专利制造工艺-铜凸倒装晶片(CuFlip™)和TQBiHEMT-来设计性能,尺寸,效率均优的TRITON系列产品。CuFlip工艺具有卓越的射频性能与设计灵活性,同时加快制造和装配;TQBiHEMT工艺使两个砷化镓(GaAs)进程集成到一个单芯片,减少元件数并节省电路板空间。

这些流程可以让单个芯片的模块来提供一个集成特性, 而现今市场所有其他的解决方案需要多个芯片和/或复杂的装配过程,TriQuint的解决方案有着无法比拟的优势。

高速SPI接口的90nm相变存储器,集串行NOR闪存和EEPROM两大存储器的技术优点于一身,具有字节修改功能以及更高的写入速度和耐写性能。


新存储器支持字节修改功能,执行写操作无需再擦除大数据区块,从而使数据处理和软件编程变得更容易。覆写即“无擦除”功能让工程师和设计人员能够简化软件开发任务,提升系统性能,将存储器写时间缩短到闪存的三百分之一。

新产品Omneo P5Q的耐写次数达到100万次,可写数据的量次是闪存的10倍。

小占位、四端口、可提供16.5kV ESD保护、具有宽电压和宽温范围的RS-485和RS-422接收器 --- ISL3217x和ISL3227x系列。

新IC的±16.5kV ESD保护均达到了业内最佳的ESD等级,满足HBM和IEC61000-4-2标准对接收器输入的要求。新的ISL32177和ISL32277包括一个逻辑VL供电引脚。

四端口接收器可以和Intersil的四端口发送器ISL32172/7/9和ISL32272/4成对使用,实现完整的点到点4通道解决方案。


深圳市慈安科技有限公司http://cakj.51dzw.com


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利用其专利制造工艺-铜凸倒装晶片(CuFlip™)和TQBiHEMT-来设计性能,尺寸,效率均优的TRITON系列产品。CuFlip工艺具有卓越的射频性能与设计灵活性,同时加快制造和装配;TQBiHEMT工艺使两个砷化镓(GaAs)进程集成到一个单芯片,减少元件数并节省电路板空间。

这些流程可以让单个芯片的模块来提供一个集成特性, 而现今市场所有其他的解决方案需要多个芯片和/或复杂的装配过程,TriQuint的解决方案有着无法比拟的优势。

高速SPI接口的90nm相变存储器,集串行NOR闪存和EEPROM两大存储器的技术优点于一身,具有字节修改功能以及更高的写入速度和耐写性能。


新存储器支持字节修改功能,执行写操作无需再擦除大数据区块,从而使数据处理和软件编程变得更容易。覆写即“无擦除”功能让工程师和设计人员能够简化软件开发任务,提升系统性能,将存储器写时间缩短到闪存的三百分之一。

新产品Omneo P5Q的耐写次数达到100万次,可写数据的量次是闪存的10倍。

小占位、四端口、可提供16.5kV ESD保护、具有宽电压和宽温范围的RS-485和RS-422接收器 --- ISL3217x和ISL3227x系列。

新IC的±16.5kV ESD保护均达到了业内最佳的ESD等级,满足HBM和IEC61000-4-2标准对接收器输入的要求。新的ISL32177和ISL32277包括一个逻辑VL供电引脚。

四端口接收器可以和Intersil的四端口发送器ISL32172/7/9和ISL32272/4成对使用,实现完整的点到点4通道解决方案。


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