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两光栅沿栅线的垂直方向16位分辨率及80dB动态范围

发布时间:2022/4/17 15:37:58 访问次数:453

110纳米和180纳米BCD平台为需要电源管理IC(PMIC)、电池管理IC(BMIC)和快速无线充电IC的应用,提供一流的芯片设计套件和集成产品解决方案。

BCD技术提供操作电压高达100V的电源 IC 设计,可实现卓越的效能,并高度整合类比电路和数字内容,以及电力元件和嵌入式的NVM。

Tanner软件提供先进、高性能且易于使用的电路图和Layout编辑器,并与一流的电路仿真器和 Calibre®软件相集成,Calibre是业界领先的设计规则检查、寄生参数提取和物理验证解决方案。Tanner软件拥有30年的市场成功经验,已帮助数千项设计成功流片。

由光栅的大量刻线形成,对光栅刻线的刻划误差有平均作用,从而能在很大程度上消除光栅刻线不均匀造成的误差。当两光栅沿栅线的垂直方向做相对移动时,莫尔条纹沿光栅刻线方向移动;光栅反向移动,莫尔条纹亦反向移动。

BGY284模块出了小尺寸以为,其中还包括了功率控制电路,采用BGY284模块,生产商可以节约30%的电路板面积,也可以大约节约30个外围元器件。

磁栅位置检测原理 磁栅也称磁尺。由磁栅、磁头和信息处理电路组成位置检测装置。

ID500广泛应用于纺织、包装、塑料、印刷、机床、微电子、自动化产品线、精密机械设备等配套领域。多轴伺服驱动器FOC电流环加速应用的开发,莱迪思低功耗、可靠的可编程FPGA器件为其赢得了宝贵的市场竞争优势。

磁栅位置检测装置的工作过程 静磁头的结构,它有两组绕组N1和N2。

电流取样式delta-sigma调制器,特点是它拥有16位分辨率及80dB动态范围,从而进一步拓宽了其高性能发动机控制转换产品的范围。ADS1202 提供高精度电流测量,适用于发动机控制应用、工业过程控制、仪表、智能发送器、便携式仪器及秤重等。


110纳米和180纳米BCD平台为需要电源管理IC(PMIC)、电池管理IC(BMIC)和快速无线充电IC的应用,提供一流的芯片设计套件和集成产品解决方案。

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由光栅的大量刻线形成,对光栅刻线的刻划误差有平均作用,从而能在很大程度上消除光栅刻线不均匀造成的误差。当两光栅沿栅线的垂直方向做相对移动时,莫尔条纹沿光栅刻线方向移动;光栅反向移动,莫尔条纹亦反向移动。

BGY284模块出了小尺寸以为,其中还包括了功率控制电路,采用BGY284模块,生产商可以节约30%的电路板面积,也可以大约节约30个外围元器件。

磁栅位置检测原理 磁栅也称磁尺。由磁栅、磁头和信息处理电路组成位置检测装置。

ID500广泛应用于纺织、包装、塑料、印刷、机床、微电子、自动化产品线、精密机械设备等配套领域。多轴伺服驱动器FOC电流环加速应用的开发,莱迪思低功耗、可靠的可编程FPGA器件为其赢得了宝贵的市场竞争优势。

磁栅位置检测装置的工作过程 静磁头的结构,它有两组绕组N1和N2。

电流取样式delta-sigma调制器,特点是它拥有16位分辨率及80dB动态范围,从而进一步拓宽了其高性能发动机控制转换产品的范围。ADS1202 提供高精度电流测量,适用于发动机控制应用、工业过程控制、仪表、智能发送器、便携式仪器及秤重等。


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