对匹配链所处位置和另外失配随机序列位置
发布时间:2019/4/29 21:15:54 访问次数:1756
图6.14给出了一个阵列中的两个位置点的测试结果,其中一个为匹配的DNA链,另一个为失配的随机序列。当基底材料注人到芯片后(图6.14中的阴影区域),传感器电极上所探测到的电流与酶标记的初始产生电荷和传感器电极上氧化还原反应所贡献的总和。达到一定时间后,在携带匹配DNA链的特定位置所产生的电化学活性物质与持续流动导致芯片上被洗掉的数量达到一个平衡,此时测得电流数值不再增加。
图614 同一阵列中,对匹配链所处位置和另外失配随机序列位置,分别测量得到的传感器氧化-还原电流及电流对时间导数的变化曲线(传感器区域的直径=笏0um,电极宽度和间距=1um) 其他位置的双链DNA所产生的一部分电化学活性物质,也会被注人到没有经过杂交的靶链所在的位置,在这种情况下,我们在这种失配的位置也会得到一定量的电流。这种现象可以被理解为电化学噪声c在最后测量阶段,(图6,14中灰色区域,时间硐~50s之间)泵停止工作。此时,匹配位置电化学活性微粒的浓度可以进一步增加而不被冲走,而失配位置电化学活性微粒的数量由于扩散过程而减少。出于这个原因,通常对传感器电流随时间变化的斜率进行测量,而不是关心其绝对值。由图也可以明显地看出,在匹配链所处的区域电流斜率这个参数其数值增长明显,而位置失配情况的区域,不仅出现了数值减少,而且正负也发生了变化。我们可以看到,在这个例子中使用的传感器为直径笏0um的圆形,电极宽度和间距均为1um,所评估的电参数,即相关的电流及其斜率分别在正负几十nA和正负几nA/s的量级。
图6.14给出了一个阵列中的两个位置点的测试结果,其中一个为匹配的DNA链,另一个为失配的随机序列。当基底材料注人到芯片后(图6.14中的阴影区域),传感器电极上所探测到的电流与酶标记的初始产生电荷和传感器电极上氧化还原反应所贡献的总和。达到一定时间后,在携带匹配DNA链的特定位置所产生的电化学活性物质与持续流动导致芯片上被洗掉的数量达到一个平衡,此时测得电流数值不再增加。
图614 同一阵列中,对匹配链所处位置和另外失配随机序列位置,分别测量得到的传感器氧化-还原电流及电流对时间导数的变化曲线(传感器区域的直径=笏0um,电极宽度和间距=1um) 其他位置的双链DNA所产生的一部分电化学活性物质,也会被注人到没有经过杂交的靶链所在的位置,在这种情况下,我们在这种失配的位置也会得到一定量的电流。这种现象可以被理解为电化学噪声c在最后测量阶段,(图6,14中灰色区域,时间硐~50s之间)泵停止工作。此时,匹配位置电化学活性微粒的浓度可以进一步增加而不被冲走,而失配位置电化学活性微粒的数量由于扩散过程而减少。出于这个原因,通常对传感器电流随时间变化的斜率进行测量,而不是关心其绝对值。由图也可以明显地看出,在匹配链所处的区域电流斜率这个参数其数值增长明显,而位置失配情况的区域,不仅出现了数值减少,而且正负也发生了变化。我们可以看到,在这个例子中使用的传感器为直径笏0um的圆形,电极宽度和间距均为1um,所评估的电参数,即相关的电流及其斜率分别在正负几十nA和正负几nA/s的量级。
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