但在一些外界条件作用下,如用光子N74F86D能量大于半导体禁带宽度的光照或pll结加正向偏压或用高能粒子辐照等,半导体材料中一部分原处于价带的电子被激发到导带,价带比平衡时多出了一部分空穴匆,导带比平衡时多出一部分电子称为非平衡载流子浓度,也称为过剩载流子浓度。光照即光注入时由于电子空穴成对出现,结加正向偏压即电注入时,非平衡电子和空穴浓度与掺杂浓度和扩散系数有关,一般AP不等于Δ。

    当撤除光照等外界作用时,半导体由非平衡状态恢复到平衡状态,非平衡载流子逐渐消失,这个过程就是载流子的复合。

   从载流子复合的微观过程上可以分成直接复合和间接复合两类,直接复合是电子在导带和价带之间直接跃迁,引起电子和空穴的直接复合;间接复合是电子通过禁带中的缺陷能级,即复合中心与空穴复合。非平衡载流子复合时伴随着能量的释放,一般有发射光子,

发射声子或传递能量给其他载流子。对于发光器件,一般按复合过程是否发射光子分为辐射复合和非辐射复合两类。辐射复合是电子和空穴直接复合发光的过程;非辐射复合主要有深能级缺陷辅助的复合、俄歇复合。