以此新的线性约束称为割平面约束,它须具备如下条件
发布时间:2017/11/30 21:12:13 访问次数:767
以此新的线性约束称为割平面约束,它须具备如下条件。
(1)平面平行目标函数等值面。FBMH1608HL600-T
(2)上述连续域最优解在割平面外侧,被割出可行域。
(3)原问题全部整数可行解在割平面的内侧,被保留在可行域内。
第四步:将割平面约束加入上述不包括整数约束的模式中。
第五步:再按一般线性规划求解,在极点上找到新的连续域最优解。
第六步:判别该连续域中最优解是否满足所有的整数约束。尚不满足,则重复上述步骤直到满足为止。
以此新的线性约束称为割平面约束,它须具备如下条件。
(1)平面平行目标函数等值面。FBMH1608HL600-T
(2)上述连续域最优解在割平面外侧,被割出可行域。
(3)原问题全部整数可行解在割平面的内侧,被保留在可行域内。
第四步:将割平面约束加入上述不包括整数约束的模式中。
第五步:再按一般线性规划求解,在极点上找到新的连续域最优解。
第六步:判别该连续域中最优解是否满足所有的整数约束。尚不满足,则重复上述步骤直到满足为止。
相关技术资料- 11-30以此新的线性约束称为割平面约束,它须具备如下条件
- 6-27电位器广泛用于电子设备
热门点击
- 电烙铁的功率与烙铁头温度对应关系
- 应力迁移
- 电压斜坡(V-ramp)和电流斜坡(J-ra
- 整流滤波后的电压值还会受到电网电压波动和负载
- oBIRCH/XIⅤA案例分析
- 金属钛湿法刻蚀
- 扩散法制备pn结是利用扩散炉
- 套刻精度一般由光刻机上移动平台的步进
- 片湿法刻蚀过程原理
- OBIRCH雷射注入技术在90nm制程失效分
推荐技术资料
- 单片机版光立方的制作
- N视频: http://v.youku.comN_sh... [详细]
公网安备44030402000607
