颗粒化学去除
发布时间:2017/11/5 17:35:39 访问次数:570
化学协助去除颗粒在很多湿法清洗中得到应用。如标准清洗液l(sC1:氨水+双氧水), TDA8541T溶液中双氧水可直接氧化溶解较有机物膜或颗粒,而对于硅表面清洗,SC1使硅表面生成薄层氧化硅,又可少量溶解氧化硅,如此反复,颗粒由大变小逐渐得到去除;还有HF湿法刻蚀氧化硅,使颗粒在膜层减薄同时一并去除,或颗粒产生底切合并外力去除等,如图9,3所示。
化学协助去除颗粒在很多湿法清洗中得到应用。如标准清洗液l(sC1:氨水+双氧水), TDA8541T溶液中双氧水可直接氧化溶解较有机物膜或颗粒,而对于硅表面清洗,SC1使硅表面生成薄层氧化硅,又可少量溶解氧化硅,如此反复,颗粒由大变小逐渐得到去除;还有HF湿法刻蚀氧化硅,使颗粒在膜层减薄同时一并去除,或颗粒产生底切合并外力去除等,如图9,3所示。
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