经过两步扩散之后的杂质最终分布形式,将由具体工艺条件决定,为两个扩散过程结果的累加。MAX3042BCWE如果用下标“1Ⅱ表示与预扩散有关的参数,“2”表示与主扩散有关的参数。当D]rl》D2∠2时,在这种

情况下,预扩散起决定作用,杂质基本上按余误差函数形式分布;当D1r1《D2r2时,此种情况下主扩散起决定作用,杂质基本上按高斯函数形式分布。

   实际的扩散情况比较复杂,在恒定表面源扩散中假定硅表面杂质浓度一直为扩散温度下的固溶度,实质上这是难以实现的。而限定表面源扩散硅表面的杂质总量也由于外扩散现象会有所减少。因此。实际扩散不一定严格遵从某种形式的扩散,而是往往较接近于某种分布,可在足够精确的程度上采用某一种分布来近似分析。

   对于确定的掺杂杂质,对扩散结深影响最大的因素是扩散温度和扩散时间,特别是扩散温度,灵敏地影响杂质的扩散系数。因此,在扩散过程中炉温的控制非常重要,通常要求炉温的偏差不大于土0、5℃。特别指出,本节所讨论的杂质扩散的典型分布仅适用于较低杂质浓度情况,对于高浓度的杂质扩散分布情况更为复杂,此处不再详细讨论。