高速旋转盘式反应室:图1-10为美国维易科(Vccco)公司的立式高速旋转盘式反应室示意图。NH3与MO源连同各自的载气分别由气流法兰盘喷口注入, A914BYW-150M其法兰盘喷口与托盘距离较大,通常约75mm。从法兰盘不同喷口的Ⅲ族和V族气体出口流速必须相互匹配,以避免产生涡流。托盘基座高速旋转(转速为500~1500rpm),尾气从下部流出。高速旋转的托盘产生吸泵效应,这种吸泵效应是流体的黏性力和旋转产生的离心力联合作用的结果。它使得Ⅲ族和Ⅴ族气流被有力吸引到托盘表面,从而抑制立式反应室中由于喷口与基座的距离大而容易引起的热对流旋涡。在流体黏性力的作用下,靠近基片表面的一层气体随同基座一起转动;在离心力的作用下,气体不断地沿径向甩到基座的边缘。与此同时,外延片上方的气体沿轴向流入外延片表面以补充失去的气体。在适宜的高转速下,托盘旋转可以使反应室内的气体平稳流过衬底和托盘表面而不产生任何涡流的活塞流,同时也可改善了 托盘上方温度分布的均匀性和温度梯度,从而大大提高生长速度的均匀性[1叨。如果转速过快,会在反应室壁造成压力梯度,以致最终在靠近反应室壁的转盘上方出现环形旋涡。

   该技术中托盘采用3区电阻加热,其电阻为片状、盘形蚊香形。温度和加热主要采用红外高温计进行测量和控制。由于反应室壁沉积较少,生长室可以经过多次生长后才需要清洗,提高了设备利用率。其衬底托盘一般需要每炉更换,以保证温度监控的准确性。托盘的更换一般通过机械手完成。该技术中托盘的高转速、气体总流速、温度分布和反应室压力对外延层的均匀性均有重要影响。