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不同清洗液的亲水处理过程

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:572

硅片亲水处理前要进行化学清洗，亲水处理必须满足三个基本提条件：（1）亲水处理溶液具有氧化作用，使硅片表面生成本征氧化层形成羟基。（2）亲水处理溶液对硅片表面最好没有腐蚀作用。（3）亲水处理溶液对硅片表面去污能力强。硅片键合常用的氧化性亲水处理溶液有h2so4/h2o2、nh4oh/h2o2，hno3/h2o2以及hf/h2o2 等。对于h2 so4 、

硅片亲水处理前要进行化学清洗，亲水处理必须满足三个基本提条件：（1）亲水处理溶液具有氧化作用，使硅片表面生成本征氧化层形成羟基。（2）亲水处理溶液对硅片表面最好没有腐蚀作用。（3）亲水处理溶液对硅片表面去污能力强。硅片键合常用的氧化性亲水处理溶液有h2so4/h2o2、nh4oh/h2o2，hno3/h2o2以及hf/h2o2 等。对于h2 so4 、

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