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高压水清洗

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:244

对由于静电作用附着的颗粒的去除首先成为玻璃和铬光刻掩膜板的清洗的必须。于是发展为高压水喷洒清洗。将一注小的水流施加2000~4000 psi的压力，水流连续不断地掩膜或晶片的表面，除去大小不一的颗粒。在水流中经常加入少剂量的表面活性剂作为去静电剂。



对由于静电作用附着的颗粒的去除首先成为玻璃和铬光刻掩膜板的清洗的必须。于是发展为高压水喷洒清洗。将一注小的水流施加2000~4000 psi的压力，水流连续不断地掩膜或晶片的表面，除去大小不一的颗粒。在水流中经常加入少剂量的表面活性剂作为去静电剂。



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