TG2U型光刻机

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:514

■ [产品名称]：tg2u型光刻机

■ [工艺方案]：半导体设备

■ [产品简介]：
产品特点：
tg2u型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和ccd等器件的重要光刻设备。

■ 说明

tg2u型光刻机主要技术参数见下表：

项目	参数
适用的掩模尺寸	a.100x100x2－3mm；b.75x75x2—3mm；c.63x63x2—3(选购)；
适用的硅片尺寸	φ35—75mm
光刻图形线条	3-4μm, 最细可达2μm
掩模与硅片之间的相对位移范围	x/y±2.5mm,(族转) ±6°
承片台(硅片)绕主轴旋转	粗调360度,可微调
承片工作台综合移动范围	x,y合成φ75mm
承片台的球座平面至掩模板面升降	0—7.5mm
曝光灯源	gcq200w超高压汞灯，曝光波长，300―436nm
曝光系统能量不低于	7mw
曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内	±5％
显微镜的照明波长	≈545nm
曝光时间控制范围	0.1秒—99分
双目显微镜的放大倍数	a.目镜共二种:10x,16x；b.平视场物镜共三种:6x,9x,15x；c.合成放大倍率:60x—240x；
真空接触压力	≥0.7kgf
装箱尺寸	1000x850x980mm(2只)
装箱重量	200kg

■ [产品名称]：tg2u型光刻机

■ [工艺方案]：半导体设备

■ [产品简介]：
产品特点：
tg2u型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和ccd等器件的重要光刻设备。

■ 说明

tg2u型光刻机主要技术参数见下表：

项目	参数
适用的掩模尺寸	a.100x100x2－3mm；b.75x75x2—3mm；c.63x63x2—3(选购)；
适用的硅片尺寸	φ35—75mm
光刻图形线条	3-4μm, 最细可达2μm
掩模与硅片之间的相对位移范围	x/y±2.5mm,(族转) ±6°
承片台(硅片)绕主轴旋转	粗调360度,可微调
承片工作台综合移动范围	x,y合成φ75mm
承片台的球座平面至掩模板面升降	0—7.5mm
曝光灯源	gcq200w超高压汞灯，曝光波长，300―436nm
曝光系统能量不低于	7mw
曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内	±5％
显微镜的照明波长	≈545nm
曝光时间控制范围	0.1秒—99分
双目显微镜的放大倍数	a.目镜共二种:10x,16x；b.平视场物镜共三种:6x,9x,15x；c.合成放大倍率:60x—240x；
真空接触压力	≥0.7kgf
装箱尺寸	1000x850x980mm(2只)
装箱重量	200kg

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