“开发45nm以后LSI工艺材料”JSR建成新无尘操作厂房
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:380
日本jsr现已在该公司位于三重县四日市的研究所内建成新的无尘操作厂房。将用来开发45nm工艺lsi在生产过程中使用的曝光用抗蚀剂材料，以及大尺寸液晶面板采用的元件与材料。
现已开始向新厂房装配曝光与分析等设备，将于2006年第1季度内开工投产。包括设备等费用在内，首年度计划投入约35亿日元。新厂房共有5层，建筑面积为5200平方米。在该公司现有的无尘操作室中，无尘度达到了最高级的“class10（每立方英尺中直径0.5μm以上的微粒不到10个）”级。
现已开始向新厂房装配曝光与分析等设备，将于2006年第1季度内开工投产。包括设备等费用在内，首年度计划投入约35亿日元。新厂房共有5层，建筑面积为5200平方米。在该公司现有的无尘操作室中，无尘度达到了最高级的“class10（每立方英尺中直径0.5μm以上的微粒不到10个）”级。
日本jsr现已在该公司位于三重县四日市的研究所内建成新的无尘操作厂房。将用来开发45nm工艺lsi在生产过程中使用的曝光用抗蚀剂材料，以及大尺寸液晶面板采用的元件与材料。
现已开始向新厂房装配曝光与分析等设备，将于2006年第1季度内开工投产。包括设备等费用在内，首年度计划投入约35亿日元。新厂房共有5层，建筑面积为5200平方米。在该公司现有的无尘操作室中，无尘度达到了最高级的“class10（每立方英尺中直径0.5μm以上的微粒不到10个）”级。
现已开始向新厂房装配曝光与分析等设备，将于2006年第1季度内开工投产。包括设备等费用在内，首年度计划投入约35亿日元。新厂房共有5层，建筑面积为5200平方米。在该公司现有的无尘操作室中，无尘度达到了最高级的“class10（每立方英尺中直径0.5μm以上的微粒不到10个）”级。
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