mentor graphics日前宣布推出calibre lfd(光刻工艺友好的设计)产品，标志着对ic设计创作流程的一次重大的重新思考，以及对可制造设计(dfm)解决方案的扩展。calibre lfd是第一个通过生产验证可以解决如何在设计的早期阶段处理工艺变动这一急迫问题的电子设计自动化工具(eda)。这个公告是在本周在欧洲召开的“设计，自动化，测试”会议(date)上宣布的。

calibre lfd使设计师能够在创造更稳健，对光刻工艺窗口更少敏感的设计上做出权衡决策。这对90纳米的技术节点来说很重要，对65纳米的技术节点则更为关键，在这里工艺变动对硅片上的结果有着很大的影响。

“对于纳米技术而言，给出高良品率的设计的能力是很关键的”，amd高端微器件部门首要技术人员luigi capodieci这样说：“通过把 calibre lfd加入我们现存的设计流程,我们可以在设计的最早期阶段就对版图的更改进行权衡,这样可以显著地提高在工艺窗口内版图的稳健性.”

晶圆代工厂和其他芯片生产厂为设计师提供lfd组件, 很像提供设计规则检查(drc)组件一样。这套组件包含能量、焦距、光罩偏移方面的考虑因素，解析度增强技术(ret)脚本，工艺模型，需检查的参数化规则。这些全都被放在一个通用的结果数据库内。设计师可以运行模拟程序来观看版图在某一个特定的光刻工艺窗口下印刷出来如何。目标则是把设计引向“lfd无错”就像“drc无错”标记一样。

calibre lfd还会计算出一个设计变动指数,或者是dvi?,用来测量设计对工艺变动的弹性。越低的dvi数值代表更有弹性的设计。dvi是用来比较不同的版图布局方案，并且帮助设计师从中挑选出对工艺变动最不敏感的方案。

calibre lfd建立在经过生产验证的calibre从设计到硅片的平台上，可以通过calibre interactive很方便地登陆到流行的版图环境中。calibre lfd对设计流程的介入很像是一种反复的设计步骤，它跟初步设计使用相同的版图编辑器。设计师可以使用版图浏览器/编辑器和结果浏览环境，比如calibre rve?或者是calibre designrev，来观看检测结果和变动数据库。

捕捉工艺变动来改善版图的稳健性是dfm的一个主要的新举措。calibre lfd为管理良品率抑制因素在每个新的工艺节点的影响打下了良好的基础。

“过去，保证版图能够被印刷是晶圆代工的职责，”明导国际副主席，从设计到硅片部的总经理joe sawicki说。“现在第一次，利用calibre lfd，设计师们能重大影响在工艺窗口内的各种变动下设计良品率如何。

calibre lfd起价为24.6万美元(一年的许可)。