日前sokudo宣布推出一款业界最具生产能力最具成本效益的涂敷显影track系统rf3t，并将在semicon japan 2007上展出。

　　该新品建立在rf3平台基础上，相较于上代产品rf3s，吞吐量提高了10%，可达200片晶圆每小时，与最快的光刻扫描设备保持同步；8个显影模块使得显影清洗能力提高了60%；新的晶圆涂敷分散系统显著减少了化学药品消耗，降低了运作成本。总的来说，rf3t能够针对光刻工艺在最低成本下提供最高的工艺性能。

　　美国应用材料与大日本网屏制造合资组建了sokudo公司，专注于开发销售半导体制造所需要的先进涂敷显影track系统。公司成立后在去年九月份推出了rf3，并在今年7月份推出了rf3s。