模拟控制界面的低端HID灯具镇流器和可调光荧光灯
发布时间:2022/1/23 18:14:19 访问次数:692
高数值孔径 (high-NA) EUV光刻机是基于0.33数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的迭代产品，其具有 0.55 数值孔径的镜头，分辨率为8纳米，而现有的0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的分辨率为 13 纳米，使得芯片制造商能够生产3/2nm及以下更先进制程的芯片，并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。
0.55NA EUV光刻系统造价相比第一代的EUV光刻机也更高,一台0.55 NA EUV光刻系统的成本预计为3.186亿美元，而目前正在出货的EUV光刻系统则为1.534亿美元。
ASML获得的价值为70.50亿欧元的新增订单当中，0.55 NA EUV光刻系统和0.55 NA EUV光刻系统的订单金额就达到了26亿欧元。
这两款产品都已得到欧洲和北美主要汽车制造商的认可，目前已经量产，可提供样品。
收发器专为高速CAN应用而设计，传输速度高达1MB/秒，并且开发过程中和汽车主要生产厂商通力合作，使新产品具有极低的电磁辐射（EME）特性，激振效应保护功能更强。即使对于ECU日益增多、总线拓扑结构持续复杂化的当前最先进的网络，上述特点也能确保通信的可靠性。
改进后的ESD性能（IEC 61000-4-2标准规定的±8kV）使制造商在无需外部ESD保护的情况下即可建立电控单元，从而在显著降低整体系统成本的同时，仍能持续满足最新ESD需求。
这款驱动电路板的规格符合Nuventix公司SynJet MR16 及 PAR38 模块的要求。
4KB的闪存AT90PWM1则为需要模拟控制界面的低端HID灯具镇流器和可调光荧光灯带来了具有成本效益的解决方案。
微控制器拥有专用的外围器件来管理 PFC 的功能和控制灯具的功率，因而可以减少外部部件的数量。
(素材来源：转载自网络,如涉版权请联系删除,特别感谢）
高数值孔径 (high-NA) EUV光刻机是基于0.33数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的迭代产品，其具有 0.55 数值孔径的镜头，分辨率为8纳米，而现有的0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的分辨率为 13 纳米，使得芯片制造商能够生产3/2nm及以下更先进制程的芯片，并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。
0.55NA EUV光刻系统造价相比第一代的EUV光刻机也更高,一台0.55 NA EUV光刻系统的成本预计为3.186亿美元，而目前正在出货的EUV光刻系统则为1.534亿美元。
ASML获得的价值为70.50亿欧元的新增订单当中，0.55 NA EUV光刻系统和0.55 NA EUV光刻系统的订单金额就达到了26亿欧元。
这两款产品都已得到欧洲和北美主要汽车制造商的认可，目前已经量产，可提供样品。
收发器专为高速CAN应用而设计，传输速度高达1MB/秒，并且开发过程中和汽车主要生产厂商通力合作，使新产品具有极低的电磁辐射（EME）特性，激振效应保护功能更强。即使对于ECU日益增多、总线拓扑结构持续复杂化的当前最先进的网络，上述特点也能确保通信的可靠性。
改进后的ESD性能（IEC 61000-4-2标准规定的±8kV）使制造商在无需外部ESD保护的情况下即可建立电控单元，从而在显著降低整体系统成本的同时，仍能持续满足最新ESD需求。
这款驱动电路板的规格符合Nuventix公司SynJet MR16 及 PAR38 模块的要求。
4KB的闪存AT90PWM1则为需要模拟控制界面的低端HID灯具镇流器和可调光荧光灯带来了具有成本效益的解决方案。
微控制器拥有专用的外围器件来管理 PFC 的功能和控制灯具的功率，因而可以减少外部部件的数量。
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