与设计图形在给定的离焦后的差异
发布时间:2017/11/1 19:25:45 访问次数:345
由一个给定的仿真模型(如空问像+阈值模型)从-个初始函数(掩膜版的原始设计图样)来对每一个掩膜版单元进行考察,看将其设定成“0”或者“1”对一些预先定义的考察I艺好坏的参量,或者代价函数有没有变化。 OPB867T55如果设定成“0”对降低代价函数有利,那么就算是原先在这个单元上是“1”,或者不透明,经过这一轮逆光刻运算,它会被改成“透明”。经过这样的反复运算,直到最后结果不再明显变化为止。那么,这样的掩膜版函数被认定为优化了的函数。常见的代价函数可以有以下几种:
(1)与设计图形的差异。
(2)与设计图形在给定的离焦后的差异。
(3)与设计图形在曝光能量偏移给定量后的差异。
(4)与设计图形在掩膜版存在给定误差后的差异。
相比传统的光学邻近效应修正,这种方法有以下优点:
由一个给定的仿真模型(如空问像+阈值模型)从-个初始函数(掩膜版的原始设计图样)来对每一个掩膜版单元进行考察,看将其设定成“0”或者“1”对一些预先定义的考察I艺好坏的参量,或者代价函数有没有变化。 OPB867T55如果设定成“0”对降低代价函数有利,那么就算是原先在这个单元上是“1”,或者不透明,经过这一轮逆光刻运算,它会被改成“透明”。经过这样的反复运算,直到最后结果不再明显变化为止。那么,这样的掩膜版函数被认定为优化了的函数。常见的代价函数可以有以下几种:
(1)与设计图形的差异。
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