对流烘箱
发布时间:2015/10/31 19:21:24 访问次数:458
对流烘箱是非自动化生产线的主要烘焙设备(见图8. 34)。它是一个在隔热封闭环境中的不锈钢反应室。环绕反应室的管道提供氮气或空气, EL5166IWZ-T7气体茌被导入反应室前先经过一个加热器加热。反应室内配有放置晶圆承片器的搁架。承片器要在箱中停留预先设定的一段时间,这时加热气体会把它们的温度升高。在超大规模集成电路( VLSI)应用中使用的对流烘箱有比例调节器和高效过滤器( HEPA),用以保持洁净的烘焙环境。
使用对流烘箱做软烘焙有几个缺点,其中之一是批与批之间的温度变异。这些变异来自:装载晶圆时门打开时间的长短,装载量,烘箱中所有部件达到恒定温度的不同时间。一个与对流加热相关联的工艺问题是光刻胶层的顶部有“结壳”的趋势,使溶剂存留在光刻胶中(见图8. 35).
对流烘箱是非自动化生产线的主要烘焙设备(见图8. 34)。它是一个在隔热封闭环境中的不锈钢反应室。环绕反应室的管道提供氮气或空气, EL5166IWZ-T7气体茌被导入反应室前先经过一个加热器加热。反应室内配有放置晶圆承片器的搁架。承片器要在箱中停留预先设定的一段时间,这时加热气体会把它们的温度升高。在超大规模集成电路( VLSI)应用中使用的对流烘箱有比例调节器和高效过滤器( HEPA),用以保持洁净的烘焙环境。
使用对流烘箱做软烘焙有几个缺点,其中之一是批与批之间的温度变异。这些变异来自:装载晶圆时门打开时间的长短,装载量,烘箱中所有部件达到恒定温度的不同时间。一个与对流加热相关联的工艺问题是光刻胶层的顶部有“结壳”的趋势,使溶剂存留在光刻胶中(见图8. 35).
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